Ваше сообщение отправлено. Мы Вам перезвоним!
Вторая индустриализация России

Перезвоните мне!

Закрыть

Магнетронное распыление

  • Array

Магнетронное распыление — технология и установки.

 

Звони: +7-908-918-03-57 или Написать нам

 

Описание:

Магнетронное распыление - технология нанесения тонких плёнок на подложку с помощью катодного распыления мишени в плазме магнетронного разряда — диодного разряда в скрещенных полях. Технологические устройства, предназначенные для реализации этой технологии называют магнетронными распылительными системами или, сокращённо, магнетронами.

Напыление металлов и сплавов производят в среде инертного газа, как правило, аргона.

Принцип магнетронного распыления основан на образовании над поверхностью катода кольцеобразной плазмы в результате столкновения электронов с молекулами газа (чаще всего аргон). Мишень устройства магнетронного распыления является источником распыляемого материала. Положительные ионы, образующиеся в разряде, ускоряются в направлении катода — мишени, бомбардируют его поверхность, выбивая из неё частицы материала.

Тяжелый ион аргона (белый шарик) разгоняется в электрическом поле и выбивает из мишени атом материала (красный шарик), который высаживается на поверхности подложки, образуя на ее поверхности пленку.

Покидающие поверхность мишени частицы осаждаются в виде плёнки на подложке, а также частично рассеиваются на молекулах остаточных газов или осаждаются на стенках рабочей вакуумной камеры.

 

Магнетронное распыление

 

При столкновении ионов с поверхностью мишени происходит передача момента импульса материалу. Падающий ион вызывает каскад столкновений в материале. После многократных столкновений импульс доходит до атома, расположенного на поверхности материала, который отрывается от мишени и высаживается на поверхности подложки. Среднее число выбитых атомов на один падающий ион аргона называют эффективностью процесса, которая зависит от угла падения, энергии и массы иона, массы испаряемого материала и энергии связи атома в материале. В случае испарения кристаллического материала эффективность также зависит от расположения кристаллической решетки.

 

Магнетронное распыление

 

Для эффективной ионизации аргона, распыляемый материал(мишень) размещают на магните. В результате эмиссионные электроны, вращающиеся вокруг магнитных силовых линий локализуются в пространстве и многократно сталкиваются с атомами аргона, превращая их в ионы.

При бомбардировке поверхности мишени ионами генерируются несколько процессов:

  • - ионное(катодное) распыление материала мишени,
  • - вторичная электронная эмиссия,
  • - десорбция газа,
  • - имплантация дефектов,
  • - ударная волна,
  • - аморфизация.

Магнетронное распыление позволяет получать высокую плотность ионного тока, а значит, и высокие скорости распыления при относительно низких давлениях порядка 0,1 Па и ниже.

 

Преимущества:

- покрытия полученные данным способом характеризуются высокой равномерностью, относительно низкой пористостью и высоким уровнем адгезии к подложке,

- возможность нанесения покрытия сложного состава,

- возможность наносить покрытия на большие площади,

- относительно дешевый метод осаждения,

- низкие температуры подложки,

- хорошая однородность покрытия,

- хорошая управляемость,

- возможность нанесения нескольких покрытий в одном технологическом цикле.

 

Применение:

- в электронике: для осаждения тонких пленок, полупроводников, диэлектриков, металлов,

- в оптике: для нанесения проводящих, отражающих, поглощающих покрытий,

- в машиностроении: для нанесения специальных покрытий, улучшающих свойства используемых материалов,

- в легкой промышленности: для получения металлизированных тканей.

 



отдел технологий

г. Екатеринбург и Уральский федеральный округ

Звони: +7-908-918-03-57



или пиши нам здесь...

карта сайта

реактивное магнетронное распыление установка тонких пленок металлов аморфные сплавы
вакуумные установки метод мишень для магнетронного распыления
аргон в магнетронном распылении
метод магнетронного распыления для полимеров
магнетронное напыление ассестированное катодным распылением
мишень для магнетронного распыления молибденовая круглая

 

Еще технологии:

comments powered by HyperComments