Ваше сообщение отправлено. Мы Вам перезвоним!
Вторая индустриализация России

Перезвоните мне!

Закрыть
Главная » Прорывные технологии » Производство машин и оборудования » Установка ионно-плазменного напыления

Установка ионно-плазменного напыления

  • Array

Установка ионно-плазменного напыления.

 



 

Установка ионно-плазменного напыления и нанесения покрытия «Микра» предназначена для нанесения методом катодно-ионной бомбардировки износостойких, коррозионно-стойких, защитно-декоративных покрытий (металл, нитриды, оксиды, карбиды и т.д.) на различные изделия из металла и ряда диэлектриков.

 

Описание

Преимущества

Технические характеристики

 


Описание:

Установка ионно-плазменного напыления и нанесения покрытия «Микра» предназначена для нанесения методом катодно-ионной бомбардировки износостойких, коррозионно-стойких, защитно-декоративных покрытий (металл, нитриды, оксиды, карбиды и т.д.) на различные изделия из металла и ряда диэлектриков.

Установка ионно-плазменного напыления

Установка ионно-плазменного напыления применяется для промышленной обработки партий мелкоразмерных изделий и инструментов, а также для научных и технологических исследований в области физики плазмы и нанесения покрытий, модифицирующих свойства поверхности материалов и разработки этих покрытий.

 


Преимущества:

– современные технические решения,

высокая надежность и простота эксплуатации в сравнении с аналогами,

– малые габариты и современный дизайн,

низкое энерго- и ресурсопотребление,

– экономия расходных материалов,

относительно малое время технологического цикла нанесения покрытия.

– имеющийся в установке источник низкотемпературой газовой плазмы (газовый источник), позволяет выполнять дополнительную внутрикамерную очистку изделий, что существенно улучшает качество покрытия.

 

Технические характеристики:

Характеристики: Значение:
Предельный вакуум 1,33×10-3 Па
Время достижения предельного вакуума (не более) 30 мин.
Управление работой установки от загрузки до выгрузки стекла программное автоматическое
Скорость осаждения нитрида титана 3 6 мкм/ч
Ток испарителя (плавно регулируемый) 40 60 А
Ток источника низкотемпературной газовой плазмы 2 10 А
Напряжение высоковольтного источника 50 1000 В
Потребляемая мощность, не более 5.5 кВт
Установочная площадь 9 м2

 

Примечание: описание технологии на примере установки ионно-плазменного напыления и нанесения покрытия «Микра».

 





карта сайта

ионно плазменное напыление
установка ионно плазменного напыления
вакуумное ионно плазменное напыление
установки ионно плазменного напыления микра
оборудование ионно плазменного напыления
купит ионно плазменное напыление
вакуумные установки напыления ионно плазменные
ионно плазменное напыление реферат
установка ионно плазменного напыления 01ни5 009 читать
ионно плазменное напыление в спб
вакуумная установка ионно плазменного напыления микра
технические условия на ионно плазменное напыление
ионно плазменное напыление можно ли мочить водой