Ваше сообщение отправлено. Мы Вам перезвоним!
Вторая индустриализация России

Перезвоните мне!

Закрыть
Главная » Прорывные технологии » Наноиндустрия » Электронная литография

Электронная литография

  • Array

Электронная литография.

 



 

Электронная литография – это метод нанолитографии с использованием электронного пучка, в ходе которого на подложке материала получаются изображения с разрешением менее 1 нм.

 

Электронная литография

Ссылки на источники

 


Электронная литография:

Электронная литография (или электронно-лучевая литография) – это метод нанолитографии с использованием электронного пучка.

Принцип метода электронной литографии заключается в следующем. На подложку материала наносится слой полимера (резиста), чувствительного к электронному облучению. Поверхность полимера (резиста) облучается электронным пучком. При этом электронный пучок, остросфокусированный с помощью магнитных линз, прорисовывает на поверхности полимера (резиста) изображение (текст и пр.), которое проявляется только после обработки полимера в проявителе. Обработка электронным пучком полимера (резиста) изменяет степень его растворимости в растворителе (проявителе). Далее, участки поверхности подложки, с отрисованным на них изображением, очищаются от резиста с помощью проявителя. Затем на прорисованные и очищенные участки поверхности подложки производится вакуумное напыление соответствующего материала (металлов, сплавов и пр.) или ионное травление. После чего, не неэкспонированный излучением полимер (резиста) смывают другим растворителем. В итоге получается фотошаблон-маска для использования в фотолитографии и других нанотехнологических процессах, например, в технологии реактивного ионного травления.

Преимуществом электронной литографии является то, что она позволяет получать изображения с разрешением менее 1 нм, в то время как в ходе обычной фотолитографии получаются изображения с разрешением 100 нм. На разрешение деталей рисунка при записи влияют как размер электронного пучка, так и процессы взаимодействия электронного пучка с резистом.

Недостатком электронной литографии является ее низкая производительность по сравнению с другими методами литографии (оптической литографией, рентгеновской литографией, ультрафиолетовой фотолитографией на эксимерных лазерах, фотолитографией в глубоком ультрафиолете). Поэтому она используется при производстве единичных экземпляров электронных компонентов наноразмерных разрешений для использования в промышленности или в научных исследованиях.

Изображения на резист могут быть записаны растровым способом, векторным способом или способом записи электронным пучком с изменяющимся размером и формой сфокусированного пятна. В последнем случае запись происходит «большим мазком».

 


Ссылки на источники:

Ниже указаны ссылки на источники:

https://mipt.ru/upload/medialibrary/53a/Lab_lithography.pdf ; https://forum-nauka.ru/domains_data/files/21/Lunyakina%20T.A.-2.pdf .

 

Примечание: © Фото https://www.pexels.com, https://pixabay.com

 





карта сайта