Комплекс уникальных электрофизических установок «УНИКУУМ».
Комплекс уникальных электрофизических установок «УНИКУУМ» создан для эффективной электронно-ионно-плазменной модификации поверхности материалов и изделий и включает в себя шесть вакуумных пучковых и плазменных установок.
Комплекс уникальных электрофизических установок «УНИКУУМ»
Возможности и особенности комплекса уникальных электрофизических установок «УНИКУУМ»
Комплекс уникальных электрофизических установок «УНИКУУМ»:
Комплекс уникальных электрофизических установок «УНИКУУМ» (УНУ «УНИКУУМ») создан для эффективной электронно-ионно-плазменной модификации поверхности материалов и изделий.
Комплекс уникальных электрофизических установок «УНИКУУМ» включает шесть вакуумных пучковых и плазменных установок «СОЛО», «ДУЭТ», «ТРИО», «КВАДРО», «КВИНТА» и «КОМПЛЕКС». Установки способны к генерации субмиллисекундных интенсивных электронных пучков, низкотемпературной плотной газовой и металлической плазмы, а также смешанной газометаллической плотной плазмы как самостоятельных, так и несамостоятельных сильноточных разрядов низкого давления. Однородная плазма, синтезированная в значительных ≥ 0,1 м3 вакуумных объёмах в данных установках, используется как для непосредственной обработки поверхности материалов и изделий (очистка, активация, азотирование, напыление покрытий), так и в качестве эффективного эмиттера электронов и ионов в источниках заряженных частиц.
С помощью комплекса уникальных электрофизических установок «УНИКУУМ» можно осуществлять следующие технологические операции:
– комплексную электронно-ионно-плазменную модификацию поверхности металлических и металлокерамических материалов и изделий (включая твердые карбидные сплавы типа WC-Co и TiC-NiCr) в едином вакуумном цикле,
– обработку органических материалов и продуктов высокоэнергетичным (до 200 кэВ) импульсным электронным пучком (модификация структуры, стерилизация и активация поверхности),
– нанесение декоративных, износостойких, термобарьерных, антикоррозионных, твердых и сверхтвердых покрытий (и иных уникальных покрытий) методом плазменно-ассистированного электродугового напыления (в т.ч. нанесение многокомпонентных и многослойных покрытий),
– азотирование титановых и стальных деталей в плазме несамостоятельного дугового разряда низкого давления,
– электронно-пучковую модификацию поверхности металлических и металлокерамических материалов и изделий (полировка, упрочнение поверхности, повышение коррозионной стойкости), в том числе миксинг покрытий.
Возможности и особенности комплекса уникальных электрофизических установок «УНИКУУМ»:
– нанесение твердых и сверхтвердых покрытий с регулируемой in situ стехиометрией;
– обработка систем покрытие/подложка с возможностью перемешивания материала покрытия (толщиной ~ 1 мкм) с материалом подложки на глубину до 20 мкм;
– электронно-пучковая абляция материала мишени с возможностью нанесения различных покрытий и их последующим перемешиванием с материалом подложки в одном цикле вакуумной откачки;
– проведение комплексных процессов обработки, включающих ионную очистку, диффузионное насыщение и напыление покрытий,
– глубина ионно-плазменной обработки – до 500 мкм;
– глубина электронно-пучковой обработки составляет 1-20 мкм;
– возможность обработки изделий сложной формы (штампы, пресс-формы);
– возможность конвейерной обработки материалов и изделий;
– возможность использования композиционных катодов;
– возможность одновременного или поочередного использования двух материалов катода;
– возможность использования манипулятора.
Ссылки на источники:
Ниже указаны ссылки на источники:
Примечание: описание технологии на примере комплекса уникальных электрофизических установок «УНИКУУМ».
© Фото https://www.pexels.com, https://pixabay.com